IT之家 1 月 15 日消息,光罩护膜 / 薄膜是极紫外 (EUV) 光刻工艺中的关键部件,指的是在光罩上展开的一层薄膜,然后用机器在上面绘制要在晶圆上压印的电路,旨在使光罩免受空气中微尘或挥发性气体的污染并减少光掩模损坏,该领域目前仍由荷兰 ASML、日本三井化学主导,而韩国 S&S Tech 等后来居上者也是主要供应商之一。韩媒 ETNews 报道称,三星电子已经自主开发出了透光率高达 88% 的 EUV 薄膜,有助于实现供应链多元化和稳定。据证实,这款透光率 88% 的 EUV 薄膜产品已经可以大规模生产。▲EUV 薄膜(pellicle) 图源:ASMLIT之家获悉,三星电子在去年的 2021 Foundry Forum 上宣布自研 EUV 薄膜,当时还公开宣布他们开发出了 82% 透光率薄膜技术,并宣布到 2022 年将拥有 88% 透光率的量产系统。值得一提的是,韩国公司 S&......