在日本之后，中国也发布新型光刻机，ASML加快对中国出口光刻机

由于美国的影响，ASML对中国出售光刻机一直都在摇摆之中，不过2022年底至少有三家中国芯片企业获得ASML的光刻机，显示出ASML的态度再次发生变化，导致如此结果或许在于中国近期宣布的新型光刻机。

一、开辟芯片制造新技术

说到绕开ASML的光刻机开发芯片制造新技术，当然得说日本，日本最先研发成功绕开光刻机的芯片制造工艺，日本研发的芯片制造工艺被称为NIL技术，该项技术已被日本的存储芯片企业铠侠采用，据称日本已将该技术发展到10nm工艺，预计可以进一步拓展到5nm工艺。

相比起采用ASML的光刻机生产的芯片制造工艺，NIL技术的成本更低，毕竟一台EUV光刻机的价格高达1.2亿美元，而第二代EUV光刻机价格更将高达近4亿美元，昂贵的成本让全球都非常关注日本的NIL工艺。

中国开发新型光刻机，则在于ASML对中国的光刻机供应总是在改变，受美国的影响，ASML至今都未向中国企业供应EUV光刻机；2022年下半年在美国的要求下，ASML又暂停供应14nm以下的DUV光刻机。

面对ASML的态度，中国一直都在力求研发新型光刻机，日前中科院光电所就研发了名为超分辨率光刻机，可以实现22nm工艺，目前该项技术还在提升之中，还花时间进一步改进以取得经济性生产成本，不过这一消息对ASML无疑是巨大的刺激。

二、ASML的态度发生变化

ASML曾扬言，即使给中国图纸也生产不出光刻机，因为光刻机是一个高精密的机器，需要全球产业链的配合，DUV光刻机需要数万个零部件，而EUV光刻机更要近10万个零部件，需要全球5000家厂商共同参与。

中国作为后来者，具有光刻机生产能力的企业有上海微电子等企业，上海微电子一直都在力推14nm光刻机，不过由于光刻机需要国内产业链的配合，仅是靠上海微电子自己的技术是不可能生产出来的，因此这几年中国一直都在推进光刻机产业链的完善。

除了研发传统的光刻机技术之外，开发新的技术也是中国芯片行业努力的方向，毕竟日本已研发的NIL工艺已证明了这是一条可行的道路，而超分辨率光刻机的研发成功就代表着中国在研发芯片制造工艺方面取得了进展。

中科院光电所的成果让ASML转变了态度，ASML高管早前就表示只要给予时间，中国迟早能研发成功先进的光刻机；同时ASML表示它是一家欧洲企业，不应该受美国的影响，荷兰外贸大臣也表示支持ASML争取自由出货的权利。

促使ASML转变态度的原因还有全球芯片市场的变化，从2022年下半年以来全球芯片行业出现过剩，连最大芯片代工厂台积电都关停了几台EUV光刻机降低生产成本，如此情况下中国以外的市场对光刻机的需求大减，中国这个在继续推进芯片产能扩张的市场对ASML来说可谓雪中送炭，ASML自然希望从中国市场获取更多收入。

如此也就不奇怪ASML在2022年底突然加快对中国出售光刻机了，毕竟它担忧中国的新型光刻机很快量产，到那时候就不需要ASML的光刻机，如今加紧出货能赚一分是一分，还能帮助它过冬。

ASML的态度变化说明了中国芯片行业还是需要自立自强，只要我们取得技术突破，那么海外高科技产品对中国市场就会迅速放松，乃至降价销售，不过即使如此我们还是应该推进光刻机技术，正如知名院士倪光南所说，先进技术是买不来的、求不来的，只有我们自己取得进展，将核心技术掌控在手里，才不会处处受制于人。